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等离子增加化学气相沉积CVD系统

简要描述：BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨等离子增加化学气相沉积CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体，并将所有控制集成于触屏操控界面之中，使设备更加智能化，便于使用者操作。温度范围宽：100-1200度可调，加热区域长度：1650mm。适用范围宽：金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。

产品型号：BTF-1200C-SL-A
厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-08-15
访问量：31

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CVD系统

回转CVD设备负极材料烧结设备二维材料制备碳纳米管

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详细介绍

品牌	贝意克

一、设备简介

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体，并将所有控制集成于触屏操控界面之中，使设备更加智能化，便于使用者操作。温度范围宽：100-1200度可调，加热区域长度：1650mm。适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。

二、技术参数

功率	3KW
额定电压	AC 220V 50/60HZ
最高温度	1200℃
工作温度	1100℃
推荐升温速率	10℃/min
空开大小（自备）	2P 40A
炉管尺寸	高纯石英管Φ100*1400mm
最大滑动距离	880mm
控温方式	模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制
控温精度	±1℃
加热元件	电阻丝
热电偶	K型
质量流量计	两路500sccm+5000sccm
机械泵	10m³/h
设备净重	约230Kg

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